Русский
EnglishОборудование ЦКП
- Стенд контроля оптической однородности и степени монодоменности в кристаллах
- Стенд контроля контраста электрооптических модуляторов
- Гидродинамический стенд
- Гипербарическая установка
- Универсальные газдинамические вакуумные стенды ЛЭМПУС-1,2
- Электронный микроскоп ТМ-1000
- Универсальный газовый анализвтор UGA-200
- Система точной ионной полировки (PIPS) GATAN Model 691
- Гелиевый течеискатель MSE-2000A
- Хромато-масс-спектрометр GCMS-QP2010NC Plus
- Микросайзер-201А
- Атомно-силовой микроскоп (AFM, СЗМ)
- Микровизор uVizoR-101
- Лазерный анализатор частиц для быстрого измерения распределения частиц по размерам в суспензиях
- Экспресс измерения спектральных характеристик световых систем
- Разработка фотолюминофоров под требования Заказчика
- Печь атмосферная до 1400 C
- Печь вакуумная до 1300 С
- Печь под давлением до 20 атм. в среде аргона до 1700 С
- Изостатический пресс до 1850 С и давлением 2000 атм.
- Установка резки машиностроительной керамики
- Установка резки кристаллов
| Attachment | Size |
|---|---|
| 3 - каталог услуг ЦКП ПФ_doc.pdf | 663.59 KB |
